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共同儀器室

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紫外-可視-近紅外光光譜儀 - 管理辦法

 

壹、儀器設備 (3)

 

一、規格型號:

 

)UV Hitachi U-4100


1.
分光器:向差補正式稜鏡-劃柵雙分光器

   (a)預分光器:Littrow Type稜鏡分光器

   (b)主分光器:繞射格子光柵分光器(2繞射光柵)Czerny-Turner Mount


2.
波長範圍:240 to 2600 nm


3.
檢知器:光電倍增管(UV/Vis)、恆溫冷卻式PbsNIR),60mm直徑積分球硫酸鋇鍍膜。


4.
樣品室:內部尺寸480W×470D×200H mmStandard type);680W×470D×300H mmLarge type


5.
波長最小刻劃:0.01 nm


6.
光譜帶寬之選擇與顯示UV/Nis:固定式或自動選擇。


7.
波長精確度:NIR/Vis±0.2nmNIR±1.0nm;附自動波長校正功能。


8.
波長掃瞄速度:0.30.75)、37.5)、1537.5)、3075)、60150)、 120300)、300750)、6001500)、12003000)、24006000nm/min。()內之值為在NIR區。


9.
燈源改變範圍:325370可自動選擇。


10.
測光系統:雙光束直接比率測光系統(日立公司唯一採用之Feedback系統)。UV/Vis:負電壓及自動轉換 ; Slit NIR:自動轉換Slit及固定式Slit


11.
測光型式:吸光度(ABS)、穿透率(%T)、反射率(%R),Energy on reference side E(R)/sample sideE(S)】。附件:1.玻璃樣品專用治具。 2.液態樣品專用治具。



)Agilent 8453 UV-Visible Diode Array Spectrophotometer


1.
光束系統:開放式單光束源。


2.
光學系統:Photo Diode Array


3.
光源:雙燈源 (Tungsten and Deuterium Lamp)


4.
樣品室:開放式無蓋。


5.
波長範圍:190 to 1100 nm


6.
狹縫波長寬度:< 1 nm


7. EP
測試標準:>1.6 (Toluene in hexane, ration abs. At 269 nm/266 nm


8. Stray
光:< 0.03% . At 340 nm


9.
波長準確度:< ±0.5nm0.5 Second ScanNIST 2034< ±0.2nmat 486.0 & 656.1 nm


10.
波長重覆性:< ±0.02nmten consecutive scansNIST2034)。


11.
全波長掃瞄時間:0.1秒。


12.
基線平移:< 0.001 A


13.
光列穩定度:< 0.001 A/h


14.
光列雜訊:< 0.0002 A, Sixty 0.5 second scan at 0 A, 500 nm


15.
操作溫度:0℃ - 50℃


16.
操作軟體:採用LAN網路聯線控制光譜儀所有的參數。


17. Kinetics
操作:Bio-chemical Analysis Multi-cell控制功能。


18.
光譜儀尺寸:> 200*360*580mm(**)



)Jasco V-650


1.
光學系統:Double beam, single monochromator


2.
光源:雙光源 (Deuterium lamp190~350 nmHalogen lamp330~350 nm)


3.
光源轉換波長:使用者可選擇330~350 nm範圍


4.
偵測器:Photomultiplier tube


5.
波長範圍:190~900 nm


6.
波長準確度:±0.2 nm (光譜帶寬 0.5 nm;波長 656.1 nm;常溫)


7.
波長重複性:±0.05 nm


8.
光譜帶寬:0.1, 0.2, 0.5, 1, 2, 5, 10 nmL2, L5, L10 nm (low stray-light mode)M1, M2 nm (micro-cell mode)


9.
線性範圍:0~10000 %T-2~4 Abs


10.
吸光度準確性:±0.002 Abs (0~0.5 Abs)±0.003 Abs (0.5~1 Abs)±0.3 %T (NIST SRM 930D)


11.
吸光度重複性:±0.001 Abs (0~0.5 Abs)±0.001 Abs (0.5~1 Abs)


12.
雜散光:1 % (198 nm KCl 12 g/L aqueous solution) 0.005 % (220 nm NaI 10 g/L aqueous solution340 nm & 370 nm
NaNO2 50 g/L aqueous solution)


13.
基線穩定度:±0.0003 Abs/hr


14.
基線平整度:±0.0003 Abs


15.
雜訊值:0.00003 Abs (0 Abs;波長:500 nm;測量時間:60 sec;譜寬:2 nm)


16.
光譜儀尺寸:460L×602W×270H mm




貳、預約辦法:


預約請洽儀器管理者:楊睿承同學 02-33665070;ray900110@gmail.com

儀器放置地點:台灣大學高分子科學與工程學研究所地下室102

若您需要預約使用儀器,請以電話或E-mail預約,謝謝。



參、操作辦法:


1) 若實驗室未有操作合格者,請派一位同學與儀器管理者學習操作流程,並取得合格操作資格。


2) 凡操作者須經由儀器管理者認定核可,取得操作資格,得以自行上機操作。


3) 未有操作資格者,須由各實驗室已取得合格操作者陪同操作,經上機練習5時段每時段約2小時後,與儀器管理者申請操作資格,經核可取得操作資格,得以自行上機操作。




肆、計費方式


1) 高分子所成員:150 / hr

2) 校內其他單位:550 / hr

3) 校外委託代測:735 / hr


(如需操作人員代為操作,每小時服務費另收:210 元。)




伍、使用資格


高分子所教授所指導的學生,經訓練與檢定考試通過之後,才能夠自行操作儀器。


操作辦法:

1)若實驗室未有操作合格者,請派ㄧ位同學與儀器管理者學習操作流程,並取得合格操作資格。

2) 凡操作者須經由儀器管理者認定核可,取得操作資格,得以自行上機操作

3)未有操作資格者,須由各實驗室已取得合格操作者陪同操作,經上機練習, 與儀器管理者申請操作資格,經核可取得操作資格,得以自行上機操作。

 

 

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