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臺灣大學 高分子研究所
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專利
學年度
97
專利類別
發明
專利名稱
導電或共軛高分子薄膜之形成方法
發表語言
中文
專利編號
第 I299339號
專利國別
中華民國
西元年月
2008-08
專利人
陳文章
/ 謝國煌、邱文英、陳兆勛、陳文章、戴子安、李其欣和王宏仁
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